Trong lĩnh vực vi chế tạo và công nghệ nano, quang khắc chùm tia electron (Electron Beam Lithography – EBL) là một công nghệ thiết yếu để chế tạo các cấu trúc có kích thước siêu nhỏ với độ chính xác cực cao. Trong số các nhà sản xuất thiết bị EBL hàng đầu thế giới, Elionix Inc. (Nhật Bản) nổi bật với dòng sản phẩm mang tên ELS (Electron-beam Lithography System) – được thiết kế chuyên biệt cho các ứng dụng nghiên cứu và sản xuất tiên tiến.
🏢 Giới thiệu về Elionix
Elionix Inc., có trụ sở tại Nhật Bản, là công ty dẫn đầu trong việc phát triển các hệ thống EBL, SEM, FIB và các thiết bị phân tích nano. Với hơn 40 năm kinh nghiệm, Elionix đã cung cấp thiết bị cho hàng trăm viện nghiên cứu, đại học và các trung tâm công nghệ nano trên toàn cầu.
⚙️ Dòng thiết bị ELS – Công nghệ khắc chính xác đến từng nanomet
Dòng thiết bị ELS (Electron Lithography System) của Elionix là loạt hệ thống quang khắc chùm tia electron hiệu suất cao, được thiết kế để “viết trực tiếp” (direct-write) các mẫu vi/nano lên wafer, không cần mặt nạ (maskless lithography).
🔑 Các đặc điểm nổi bật:
| Tính năng | Mô tả |
|---|---|
| 🎯 Độ phân giải cao nhất thế giới | Dòng ELS-BODEN có khả năng tạo mẫu đến 1.8 nm |
| 🧠 Công nghệ tự hiệu chỉnh beam thông minh | Đảm bảo độ ổn định khi ghi mẫu dài |
| ⚙️ Điện áp cao | 50 – 125 kV (một số model đặc biệt đến 150 kV) |
| 📐 Hỗ trợ wafer đa kích thước | Từ 2 inch đến 12 inch (dòng ELS-BODEN 12″) |
| 💡 Phần mềm ELMS thông minh | Giao diện CAD, hỗ trợ GDSII, Python scripting, chức năng quan sát SEM tích hợp |
| 🚀 Scan tốc độ cao | Dòng ELS-BODEN Sigma đạt 400 MHz scan clock – giúp tăng throughput |
🧪 Các dòng thiết bị ELS tiêu biểu
| Model | Mô tả | Ứng dụng chính |
|---|---|---|
| ELS-7000 | Máy EBL điện áp 100 kV, phổ biến trong nghiên cứu cơ bản | Vi cấu trúc, MEMS, photonic |
| ELS-G100 | Độ phân giải cao, linh hoạt trong tùy chỉnh | Cấu trúc nano, plasmons, cảm biến |
| ELS-BODEN | Hỗ trợ wafer lớn đến 12 inch, scan tốc độ cao | R&D bán dẫn, nano-mask making |
| ELS-BODEN Sigma | Phiên bản hiệu suất cao với 400 MHz scan clock | Tạo mẫu nhanh, prototyping tốc độ cao |
🏭 Ứng dụng trong công nghiệp và nghiên cứu
Dòng thiết bị ELS phù hợp với nhiều lĩnh vực tiên tiến:
- Sản xuất chip nano, chip AI, cảm biến quang tử
- Tạo photomask độ phân giải cao
- Chế tạo thiết bị MEMS/NEMS, thiết bị y sinh học
- Khắc mẫu plasmonic, metamaterials, cấu trúc lượng tử
- R&D cho ngành vật liệu 2D, graphene, topological insulators
✅ Ưu điểm khi chọn ELS của Elionix
- Khả năng tùy biến cấu hình cao: từ single-beam đến multi-beam, hỗ trợ wafer lớn nhỏ.
- Độ tin cậy công nghiệp: hoạt động ổn định trong điều kiện vận hành khắt khe.
- Hệ thống phần mềm thân thiện & chuyên sâu: hỗ trợ cả người dùng mới và chuyên gia.
- Hỗ trợ kỹ thuật toàn cầu: hệ thống được lắp đặt tại nhiều nước châu Á, châu Âu, Mỹ.
Quang khắc chùm tia electron trên bản wafer là công nghệ không thể thiếu trong nghiên cứu và chế tạo các linh kiện điện tử, vi cơ, và vật liệu nano tiên tiến. EBL là công cụ lý tưởng trong quá trình thiết kế, thử nghiệm và tạo mẫu có độ chính xác cao mà quang khắc truyền thống không thể đạt tới.
Dòng thiết bị ELS của Elionix không chỉ là công cụ tạo mẫu độ phân giải cao trong phòng thí nghiệm, mà còn là nền tảng vững chắc cho những trung tâm nghiên cứu và sản xuất công nghệ nano hiện đại. Với sự kết hợp giữa độ chính xác, độ ổn định và khả năng tự động hóa, ELS xứng đáng là lựa chọn hàng đầu trong lĩnh vực quang khắc chùm electron.
