💡 Công nghệ mũi nhọn trong sản xuất chip, vật liệu tiên tiến và màng phủ chức năng!
Bạn đã từng nghe đến thiết bị PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)? Đây là “trái tim” của nhiều quy trình lắng đọng màng mỏng trong ngành bán dẫn, MEMS, pin mặt trời, vật liệu nano và thiết bị quang học.
✅ PECVD là gì?
Là công nghệ sử dụng plasma nhiệt độ thấp để tạo lớp màng mỏng từ các khí phản ứng, lắng đọng trực tiếp lên bề mặt chất nền. So với CVD truyền thống, PECVD hoạt động ở nhiệt độ thấp hơn – cực kỳ lý tưởng cho các vật liệu nhạy nhiệt.
🔧 Thiết bị PECVD gồm những gì?
- Buồng phản ứng chân không
- Nguồn plasma RF hoặc microwave
- Hệ thống cấp khí SiH₄, NH₃, N₂O, CH₄…
- Bơm chân không & bàn nhiệt điều khiển
- Phần mềm lập trình quy trình (recipe)
🌟 Ứng dụng tiêu biểu:
- Lắng đọng SiO₂, Si₃N₄, DLC, a-Si:H, Al₂O₃…
- Phủ cách điện, chống phản xạ, chống xước, màng bảo vệ sinh học…
🏭 Thiết bị PECVD nổi bật:
- Thiết bị PECVD (Oxford Instruments)
- Phủ màng DLC, graphene)
- Thiết bị chuyên dùng nhiệt độ thấp
- Thiết bị cho nghiên cứu R&D
- Giải pháp công nghiệp cho MEMS & bán dẫn
🔥 Dù bạn là kỹ sư vật liệu, nhà nghiên cứu bán dẫn hay startup công nghệ, PECVD là công nghệ không thể thiếu nếu bạn muốn làm chủ lớp màng mỏng chức năng!
👉 Bạn đang cần tư vấn thiết bị PECVD phù hợp cho phòng lab hoặc nhà máy? Hãy để lại bình luận hoặc inbox để được hỗ trợ chi tiết.
#PECVD #PlasmaDeposition #MàngMỏng #CVD #OxfordInstruments #CôngNghệLắngĐọng #VậtLiệuTiênTiến #Nano #AnDongTechnology
